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    3. 重大任务

      产业合作-重大任务

      一、重大任务

      面向显示、成像、照明等行业,进行工程研究与应用,产业链上下游参与合作

      • 微纳智能装备与应用;

      • 大尺寸电容触控屏及应用

      • 微纳功能薄膜与应用

      • 3D光场打印系统与应用

      • 下一代裸眼3D显示与应用

      二、重大目标产品的牵引研究

      提升重大工程技术研发能力和装置水平,研发重大应用前景新品,突破技术瓶颈

      1、大尺寸柔性电容触控屏工艺和产线(面向55" -84")

      2、大幅面微光学白金浮雕防伪印材和产业应用

      3、3D光场打印系统与材料(面向电子商务产品的防伪问题)

      三、面向用户需求的解决方案研究

      研究并解决行业用户亟需解决问题,服务于行业需求,进行行业交叉合作。

      • 超薄照明解决方案与智能手机微光学膜
      • 汽车功能薄膜装饰件的环保工艺研究
      • 微透镜阵列立体显示光学膜与应用(公众鉴别光学防伪技术与标识)

      附部分项目

       

       

      1、大幅面光学印材与防伪、3D激光打印系统

      点击查看374x245原始图片...技术特色:空间成像、动态3D成像、高端光学防伪

      • 3D光场成像的激光打印工艺、材料和系统
      • 微透镜阵列空间飞行打印技术和空间成像机制
      • QR二维码动态光学图像打印技术。 
      • 应用:3D印刷、3D成像;激光签证;光学防伪。

      合作模式:产学研合作,推进工业应用。


       

       

      2、LED平面照明解决方案与应用

      技术特色:(1) 采用压印方式设计制作LED导光器件,克服了传统工艺中的印制污染问题,可获更好的光学品质好、导光均匀和导光效率更高、色饱和更好的大尺寸平面LED照明器件。

      主要联合攻关:

      • 大尺寸微结构导光板纳米压印工艺与设备
      • 大尺寸微纳结构模具、结构网点优化和评测。
      • 导光板个性化设计、色温可调解决方案 
      • 幅面:TV类型的LED导光板,
      • 应用:照明、显示行业

      已有工作基础:32"以下的导光设计、模具制备和压印工艺设备。

      合作模式:产业链上下游合作,新商业模式,共同推进大尺寸超薄导光板在LED照明、超薄TV的产业应用。


       

       

      3、大尺寸电容触控器件的产业化。

       

      特色:采用光刻与纳米压印技术的新型透明导电触控屏,是新一代大尺寸电容触控显示屏的首选。研发目标目标尺寸:55英寸触控屏 

      • 55"以上超大触控传感膜的关键技术和装备研发。
      • 透明导电传感膜微米线宽的导电结构工艺、纳米导电材料和特性。
      • 研究大尺寸亚微米光刻直写新工艺。
      • 研究亚微米线宽下纳米组装新方法。
      • 研究大尺寸触控屏集成技术与应用。
      • 应用:大屏幕触控、工程显示、投影屏、平板显示等。

      合作模式:商业与产业合作,推进产业应用。


       

      4、微阵列立体显示光学膜

      技术特色:极高分辨率的3D显示 

      • 研究无油墨印刷的3D成像机理、极高分辨率成像工艺与设备
      • 研究双面对准卷对卷UV纳米压印工艺。
      • 研究超薄3D裸眼显示与成像关键材料制备。
      • 多功能3D显示微纳结构设计。
      • 研究微透镜集成成像、动态光学放大、薄膜化显微镜的制备工艺。
      • 应用:3D显示、动态空间成像、背光增亮、高层光学防伪。阵列纳米检测仪器。

      合作模式:产业链合作。


      5、高光效定向扩散光学薄膜

       

       

      技术特色:将扩散与增亮功能合二为一,实现上下光场的有效压缩,提供显示亮度。主要攻关:

      • 新型定向扩散膜的结构设计、制备工艺,微结构形貌对光场散射的影响评价。
      • 光效提升:垂直光场压缩1倍以上,扩散光效提升一倍以上,用于便携式平板电脑、大型定向扩散投影屏;
      • 真彩色3D全息投影屏:垂直扩散大于水平扩散,用于多投影仪的3D投影真彩色立体显示

      合作模式:上下游产业合作、产学研合作。共同研发和市场推广。


       

       

      6、LED纳米图形光刻系统及nPSS应用
      • 研究纳米图形衬底nPSS(300nm-800nm)光刻、ICP蚀刻、外延工艺。解决纳米图形的大视场拼接和快速光刻直写。
      • 推进纳米图形衬底nPSS的工程研究。
      • NanoCrystal-8的300nm以上周期点阵的快速光刻能力。
      • 应用:LED外延;太阳能电池;OLED增亮等;科学研究。

      合作模式:产业链合作,平台建设。

       

      7、超大幅面微纳图形化系统研制(江苏省高技术重点实验室)

      研究海量数据的传输与上载技术,千兆数据传输和TGB内存缓存技术。研究248nm深紫外波长下的光学器件的特性提升与系统集成。

      • 目标:65nm纳米节点跨尺度微纳图形高速直写。 
      • 应用:大尺寸微米精度的光掩膜、微纳结构制备、显示掩膜制备。

       

       

      技术文档下载

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