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    3. 研发设施

      研究与中试条件一、工程研发能力

       

      “柔性制造”平台:模块化、知识密集、可变尺度和可快速配置。业内规模化、跨尺度、可快速配置的微纳微加工与制造条件。

      1、微纳结构制备(图形化):幅面42寸、0.25um分辨率、1.5um线宽以上任意图形;幅面42寸、100nm及以上特征结构的纳米结构。

      拥有大型紫外微图形无掩模直写系统(iGrapher820)、超大型(65”)激光直写光刻系统(MiScan1500系统)、大型微纳米混合光刻直写系统(HoloScanV);精密电铸系统,激光刻蚀系统、激光签注系统;紫外纳米光子晶体直写系统(HoloMakerIIIc)、高速紫外图形直写系统,多轴激光并行光刻系统(MicroLab100);大型紫外接近式曝光系统(EXPOSURE-Scan)。

      2、纳米压印工艺
      柔性纳米压印模板
      200nm点阵以上周期结构,1微米以上结构复制、微流控、生物芯片。
      PMMA、PC、PET材料:压印器件,微纳结构压印薄膜
      UV coating 胶

      拥有UV卷对卷纳米压印设备7套;热压纳米压印设备套、纳米转移设备,溅射与热蒸发蒸镀设备以及相关其他设备。

      3、LIGA工艺、激光刻蚀
      深纹精密模具:线宽10um-200um,深度5um-100um
      触摸屏、太阳能电池电极等精密印刷Ni网版
      图形刻蚀(矩阵、蜂窝、棋盘、圆形、直线等)
      位相光栅、衍射元件、全息图、精密图形、MEMS
      LED导光logo、3D成像、空间动感成像(悬浮成像)

      4、微结构器件
      Micro-structure patterns
      基材:PC,Si,石英等
      图形分辨率1um,深宽比可达5:1,尺寸100mmx100mm
      用于二元光学位相结构
      微流控芯片、生物芯片等。

      拥有精密电铸系统、激光直接刻蚀系统、激光签注系统;纳米压印设备、辊筒激光刻蚀设备、大尺寸平板激光刻蚀设备等。

      二、工程化设备

      具有微纳加工柔性材料与器件跨尺度微纳装备的光、机、电、算工艺一体化实验和中试条件,可全方位为客户和合作方提供服务和方案支持。

      • 宽幅激光全息制版系统(HoloScanVe)
      • 大型微纳米混合干涉光刻系统(HoloMakerIIIc)
      • 高速紫外图形化直写系统(iGrapher200-810)
      • 双头混合紫外激光光刻系统(MiScan)
      • 精密多轴激光并行光刻系统(MicroLab100)
      • 超大型紫外激光掩膜直写系统(iGrapher150)
      • 紫外纳米光子晶体直写系统(6"-12”)(NanoCrystal)
      • 精密电铸系统(40"-65”):21套;
      • 大型激光刻蚀系统(平板刻蚀、辊筒刻蚀系统)
      • 激光签注系统
      • 大型紫外接近式曝光系统(EXPOSURE-Scan)
      • UV卷对卷纳米压印设备(14”-65"
      • 热压纳米压印设备
      • 纳米涂布与转移设备
      • 溅射-热蒸发蒸镀设备以及相关其他设备
      • 大型光刻胶板涂布设备
      • 激光全息曝光系统
      • 光学检测平台
      • 精密丝印设备

      三、核心技术

      1、超大尺寸快速图形化光刻技术
        
      ●大尺寸紫外激光投影直写光刻系统
        ●超大尺寸微-纳混合图形化直写系统 
        ● 多轴微纳加工设备(新产品)
        ● LED光子晶体快速光刻系统
      特色:(1)65英寸光掩膜(2um线宽)光刻能力。65英寸300nm周期光子晶体或者纳米陷光结构的光刻能力。(2)25寸精密光掩膜(0.5um微米分辨率,1微米线宽;0.25um分辨率,1um线宽);支持大尺寸精密导电电路(2um线宽)的快速直写光刻。

      2、纳米压印技术与模板制造
        ● UV纳米压印工艺与装备
        ● 卷对卷纳米压印系统(新产品)

      150纳米线宽、300纳米周期结构的亚波长光学结构、材料与器件的研发条件。1300nm门幅的纳米结构光学薄膜的研发条件。双面UV纳米压印技术是工程研究中心的特色技术。

      3、显示材料与器件:微纳光学膜新方法
        ● 精密激光刻蚀与模具制备系统:支持32寸导光模具制备

        ● 热压型卷对卷纳米压印系统与关键工艺技术:超薄LED导光板(扩散复合功能)
        ● 微镜扩散模具制备技术、
        ● 大尺寸透明导电传感器

      4、3D成像与显示:机理和技术
        ●
      3D成像与显示材料的设计与制备技术:3D
      激光打印系统
        ● 基于微透镜薄膜的激光空间成像技术
        ● 真彩色立体图像处理、 三维真彩色显示屏

       

      四、研究条件(场地)

      6000平米实验楼,其中,3000平米净化实验室。中试线:4000平米中试基地(净化):柔性制造中试基地(微纳光学、光电膜)、微纳图形化与器件加工中试基地(纳米图形化、光子晶体、纳米功能器件与材料)。

      五、检测仪器

      微纳设备与检测仪器:光刻胶涂布、紫外光刻、ICP、IRE、电铸、纳米压印、激光直写、超声清洗;涂布设备、激光蚀刻系统、微纳图形化直写、蒸镀设备、UV纳米压印设备、全息实验系统、薄膜结构转移、直接热压印系统、和大幅面LIGA工艺;台阶仪、金相显微镜、3D共焦显微镜、原子力显微镜和气相色谱仪等。


       

      技术文档下载

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