• <span id="rx3x9"><listing id="rx3x9"></listing></span>
    <bdo id="rx3x9"><center id="rx3x9"><menu id="rx3x9"></menu></center></bdo>

    1. <pre id="rx3x9"></pre><sup id="rx3x9"><source id="rx3x9"></source></sup>
    2. <sub id="rx3x9"></sub>
    3. 重大任務

      產業合作-重大任務

      一、重大任務

      面向顯示、成像、照明等行業,進行工程研究與應用,產業鏈上下游參與合作。

      • 微納智能裝備與應用;

      • 大尺寸電容觸控屏及應用

      • 微納功能薄膜與應用

      • 3D光場打印系統與應用

      • 下一代裸眼3D顯示與應用

      二、重大目標產品的牽引研究

      提升重大工程技術研發能力和裝置水平,研發重大應用前景新品,突破技術瓶頸

      1、大尺寸柔性電容觸控屏工藝和產線(面向55" -84")

      2、大幅面微光學白金浮雕防偽印材和產業應用

      3、3D光場打印系統與材料(面向電子商務產品的防偽問題)

      三、面向用戶需求的解決方案研究

      研究并解決行業用戶亟需解決問題,服務于行業需求,進行行業交叉合作。

      • 超薄照明解決方案與智能手機微光學膜
      • 汽車功能薄膜裝飾件的環保工藝研究
      • 微透鏡陣列立體顯示光學膜與應用(公眾鑒別光學防偽技術與標識)

      附部分項目

       

       

      1、大幅面光學印材與防偽、3D激光打印系統

      點擊查看374x245原始圖片...技術特色:空間成像、動態3D成像、高端光學防偽

      • 3D光場成像的激光打印工藝、材料和系統
      • 微透鏡陣列空間飛行打印技術和空間成像機制
      • QR二維碼動態光學圖像打印技術。 
      • 應用:3D印刷、3D成像;激光簽證;光學防偽。

      合作模式:產學研合作,推進工業應用。


       

       

      2、LED平面照明解決方案與應用

      技術特色:(1) 采用壓印方式設計制作LED導光器件,克服了傳統工藝中的印制污染問題,可獲更好的光學品質好、導光均勻和導光效率更高、色飽和更好的大尺寸平面LED照明器件。

      主要聯合攻關:

      • 大尺寸微結構導光板納米壓印工藝與設備
      • 大尺寸微納結構模具、結構網點優化和評測。
      • 導光板個性化設計、色溫可調解決方案 
      • 幅面:TV類型的LED導光板,
      • 應用:照明、顯示行業

      已有工作基礎:32"以下的導光設計、模具制備和壓印工藝設備。

      合作模式:產業鏈上下游合作,新商業模式,共同推進大尺寸超薄導光板在LED照明、超薄TV的產業應用。


       

       

      3、大尺寸電容觸控器件的產業化。

       

      特色:采用光刻與納米壓印技術的新型透明導電觸控屏,是新一代大尺寸電容觸控顯示屏的首選。研發目標目標尺寸:55英寸觸控屏 

      • 55"以上超大觸控傳感膜的關鍵技術和裝備研發。
      • 透明導電傳感膜微米線寬的導電結構工藝、納米導電材料和特性。
      • 研究大尺寸亞微米光刻直寫新工藝。
      • 研究亞微米線寬下納米組裝新方法。
      • 研究大尺寸觸控屏集成技術與應用。
      • 應用:大屏幕觸控、工程顯示、投影屏、平板顯示等。

      合作模式:商業與產業合作,推進產業應用。


       

      4、微陣列立體顯示光學膜

      技術特色:極高分辨率的3D顯示 

      • 研究無油墨印刷的3D成像機理、極高分辨率成像工藝與設備
      • 研究雙面對準卷對卷UV納米壓印工藝。
      • 研究超薄3D裸眼顯示與成像關鍵材料制備。
      • 多功能3D顯示微納結構設計。
      • 研究微透鏡集成成像、動態光學放大、薄膜化顯微鏡的制備工藝。
      • 應用:3D顯示、動態空間成像、背光增亮、高層光學防偽。陣列納米檢測儀器。

      合作模式:產業鏈合作。


      5、高光效定向擴散光學薄膜

       

       

      技術特色:將擴散與增亮功能合二為一,實現上下光場的有效壓縮,提供顯示亮度。主要攻關:

      • 新型定向擴散膜的結構設計、制備工藝,微結構形貌對光場散射的影響評價。
      • 光效提升:垂直光場壓縮1倍以上,擴散光效提升一倍以上,用于便攜式平板電腦、大型定向擴散投影屏;
      • 真彩色3D全息投影屏:垂直擴散大于水平擴散,用于多投影儀的3D投影真彩色立體顯示

      合作模式:上下游產業合作、產學研合作。共同研發和市場推廣。


       

       

      6、LED納米圖形光刻系統及nPSS應用
      • 研究納米圖形襯底nPSS(300nm-800nm)光刻、ICP蝕刻、外延工藝。解決納米圖形的大視場拼接和快速光刻直寫。
      • 推進納米圖形襯底nPSS的工程研究。
      • NanoCrystal-8的300nm以上周期點陣的快速光刻能力。
      • 應用:LED外延;太陽能電池;OLED增亮等;科學研究。

      合作模式:產業鏈合作,平臺建設。

       

      7、超大幅面微納圖形化系統研制(江蘇省高技術重點實驗室)

      研究海量數據的傳輸與上載技術,千兆數據傳輸和TGB內存緩存技術。研究248nm深紫外波長下的光學器件的特性提升與系統集成。

      • 目標:65nm納米節點跨尺度微納圖形高速直寫。 
      • 應用:大尺寸微米精度的光掩膜、微納結構制備、顯示掩膜制備。

       

       

      技術文檔下載

      日本人69xXⅹ69护士
    4. <span id="rx3x9"><listing id="rx3x9"></listing></span>
      <bdo id="rx3x9"><center id="rx3x9"><menu id="rx3x9"></menu></center></bdo>

      1. <pre id="rx3x9"></pre><sup id="rx3x9"><source id="rx3x9"></source></sup>
      2. <sub id="rx3x9"></sub>