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      激光圖形化直寫設備MiScan

      MiScan 系列激光圖形化直寫設備省去了繁瑣的掩膜加工步驟,提供快速,高效和低成本光刻制程的解決方案,尤其對于有光刻Mask外協需求的用戶來說,可以自制相應的Mask降低成本或提升研發速度需求;本產品采用大功率的半導體激光光源,長壽命、低功耗;用戶操作界面友好靈活,支持多種版圖設計格式;可以可以根據自身的需求,方便靈活的選用不同的投影倍率實現多種模式的曝光。
       

      小型激光圖形化設備Microlab

      Microlab是小型高精度微圖形化系統,一款名副其實的微結構光刻加工"實驗室",與傳統光刻設備不同,Microlab屬于直寫系統,無需掩模板,直接將設計數據光刻成“微結構”,工藝靈活。采用四軸運動控制(X-Y-theta-Z)和空間調制(SLM)技術,具有直角坐標、極坐標和在非平基面上光刻微圖形的先進功能。 系統操作方便,支持24/7運行模式,尤其適合于MEMS、微流控、光電子、二元光學器件、光掩模、生物領域的科學研究與研究生實驗之用途。
       

      高速激光圖形化直寫設備 iGrapher200/iGrapher820

      iGrapher實現了上述希望,突破了一系列關鍵技術難題,在硬件、軟件和工藝上全面提升,實現了大幅面襯底上的微圖形高速直寫,對掩模文件、集成電路文件格式全兼容。采用高速空間光調制器(spatial light modulation),陣列圖形輸入模式(達8k幀),3D導航飛行曝光(3D navigation flying exposure)、納秒時序平鋪曝光(parallelism、 nano-second patterning)技術,專用于光掩模、柔性電子的微圖形(線寬1um-10um)、LIGA工藝、微納模具的高效光刻
       

      納米圖形光刻設備 NanoCrystal

      平鋪快速直寫NanoCrystal實現了納米結構的快速直寫光刻功能,采用光斑平鋪光刻模式,光斑內調制納米結構分布,光刻效率比電子束快至少500倍,在陣列納米器件等研究上,NanoCrystal的光刻速率,比電子束光刻快5000倍以上,如光刻直徑20um的Fresnel透鏡陣列, 每次曝光一個透鏡,速度可達1000個/s。
       

      大型智能高速全息制版設備HoloScanV

      以高速光刻直寫為核心技術,創立5五軸自動聯動、可調制光斑內的微納結構的尺度、取向、像素位置和分布。在制版速度、制版圖形的精度、制版幅面具有先進水平,是一款全功能的智能化全息制版系統。在制版功能上,可智能化制備所有類型的全息圖像和衍射圖像光刻模板,最大幅面可達65寸。
       

      UV納米壓印設備

      UV-納米壓印是一種基于紫外加工的低成本生產型技術。微光學、光電子、顯示、全息行業對UV納米壓印的需求日益增長。
       

      熱壓超薄導光板模具加工設備

      隨著移動終端的超薄化,卷壓(roll-to-roll)制程是生產超薄導光板的必然趨勢。精密超薄導光板的批量生產涉及兩項技術:柔性壓印模具設計與制造、熱壓設備與工藝。
       

      光掩膜精密壓印模具全息母板

      提供微納模具、納米壓印模具、光掩模板、全息制版,導光板模具加工。蘇大維格有業內先進水準的微納光刻和激光精密加工設備。
       

      微納功能器件制備

      蘇大維格從事微納光學原版、微納結構器件模具制造的技術優良企業,自主研發的大幅面激光制版設備,寬幅激光直寫設備在技術性能、機臺數量、制版種類和制品性能上位于行業前列。 所有類型的微納結構圖形均可在蘇大維格實現。
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