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    3. UV納米壓印設備

      UV-納米壓印是一種基于紫外加工的低成本生產型技術。微光學、光電子、顯示、全息行業對UV納米壓印的需求日益增長。
       
      在100納米-50微米圖形復制技術中,UV-納米壓印技術已經成為高分辨率、低成本主要復制手段。將是新一代、光電子、柔性印刷電子、3D顯示、觸控和特種光學薄膜的推動性力量。
       
      由于在顯示、柔性電子、印刷等領域的產品開發需要,UV納米壓印逐步從平壓平納米壓印光刻(NIL)發展到卷對卷UV納米壓印批量復制。
       

       

      蘇大維格在納米壓印領域進行了長達10余年的研究與開發,從最初的平壓平納米壓印拼板設備、卷對卷熱壓設備、到目前UV 卷對卷納米壓印設備(200710132387.6)。

      蘇大維格的UV R2R納米壓印有兩種模式:第一、卷對卷UV納米壓印模式,主要用于微納光學薄膜、柔性微納米襯底的批量復制制造。第二,滾壓平納米壓印模式,在平面上步進滾壓,實現納米結構在平面基材上的重復性復制,主要用于大幅面模具制備。
       
      公司建有規?;疷V納米壓印制程,千級、萬級凈化車間,用于光學薄膜、導光薄膜、導電薄膜、柔性印刷薄膜、鐳射薄膜的批量制造。
       
      蘇大維格的UV納米壓印設備配有精密涂布上膠、精密壓力傳感和溫度傳感控制、UV光強調節系統,可精密控制壓印速度、張力和成型品質,具有很好的基材適應性,適合在塑性基材上直接納米壓印,效率高、成本低、變形量小,同時,建有PET材料表面處理制程。
       
      應用領域
       
      光學薄膜
      立體成像膜
      微納結構薄膜
      微光學器
      Fresnel 透明膜
      防窺視膜
      全息薄膜
       
      技術參數

          速度 5-30  米/分鐘
          幅面: 450mm,800mm,1300mm
          壓印深度:100nm -30um
          模具安裝: 30分鐘

       

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