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    3. 新闻资讯

      2021-01-21

      苏大维格:环保3D光学转移材料迅速增长

      自公司第一款环保3D光学转移材料投入市场后,因其生产过程中无溶剂排放、能耗低的优点完全符合国家绿色生产的要求,同时因其具有超高结构保真度,能够实现50μm以内深度复杂结构的稳定批量生产,在印刷包装行业引起众多关注。

      2021-01-21

      再添荣誉 | 陈林森荣获全国杰出工程师奖

      12月30日,2020年(第四届)杰出工程师奖获奖名单在北京揭晓,经过63位评审专家(其中包括20位院士)认真评选,杰出工程师奖奖励委员会审定,微纳光制造领域科学家、苏大维格董事长陈林森从全国近千名申请者中脱颖而出,荣膺第四届全国杰出工程师奖。

      2021-01-21

      2020 实“鼠”不易,2021“牛”转乾坤—苏大维格集团祝您元旦快乐!(文末有惊喜)

      我们告别极不平凡的2020,迎来了充满希望的2021。新一轮科技革命和产业变革深入发展,颠覆性技术创新不断涌现,重要领域产业变革正从导入期向拓展期转变。新的一年,苏大维格集团仍将以坚如磐石的信心、坚韧不拔的毅力、只争朝夕的干劲,日积月累、久久为功,面向产业技术变革,协同产业链共同建长板、补短板,努力实现更多“从0到1、从1到N”的突破。

      2020-12-08

      苏大维格亮相第十六届证卡票签安全技术展暨高峰论坛

      在今天召开的第十六届证卡票签安全技术展暨高峰论坛上,苏大维格集团总裁朱志坚先生就“3D光刻在高端防伪领域的应用展望”展开了精彩演讲,为与会者揭秘了苏大维格是如何基于多维超构表面的新算法、直写光刻的创新手段以及微纳压印功能化和批量化等多重手段,实现产品从器件设计到结构图形化、到批量复制、到材料功能化以及最终器件集成的全链条一体化设计与制造的全过程。

       

      背光模组超薄导光板(膜)

      热压印工艺将精密模具上微结构复制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光学网点结构有效地将全内反射进入导光板(膜)光线导出表面。通过微结构优化中大尺寸导光板(膜),光线从接近正出射角度导出,亮度更高,更均匀。

       

      大尺寸透明导电膜(模组)

      “基于柔性纳米压印技术”的新型透明导电膜制造技术,采用micro-metal-mesh(M3)制程工艺,颠覆了精密电路需要蚀刻的传统工艺,通过纳米压印和增材制造(选择性生长),获得大幅面高性能透明导电膜和自支撑透明导电材料

       

      创新 + 资本+ 产业的官助民营新型研究院

      苏州苏大维格科技集团股份有限公司

       

      总部

      苏州市新昌路68号,苏州工业园区(独墅湖大道南侧,与金堰路交叉口)
      电话:+86-512-6286 8882
      传真:+86-512-6260 0602
      邮箱:info@svgoptronics.com

      最新公告

      2019-04-08

      苏大维格喜获2018年度江苏省科学技术奖一等奖

      苏州苏大维格科技集团股份有限公司(以下简称“公司”)于近日收到江苏 省人民政府下发的《省政府关于 2018 年度江苏省科学技术奖励的决定》[苏政发 (2019)22 号],公司获得 2018 年度江苏省科学技术奖一等奖。

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      2019-01-09

      项目介绍:面向微纳3D形貌的紫外光刻直写技术与设备

      超薄化、轻量化意味着微纳结构的运用。然而,大面积3D微纳结构的设计与制造面临巨大挑战。首先,大面积3D微纳结构涉及海量数据处理与设计。例如,一个超薄导光器件上的微透镜有数千万个以上;一件口径10mm以上的超透镜,含有数十亿到数百亿个数据单元;一幅大尺寸透明电路传感器涉及数十Tb以上的数据量;大口径薄膜成像透镜涉及精确3D形貌,数据量会数量级增大;第二,将设计数据转换成微纳结构的途径与效率。如何将这么庞大数据直接转换成微纳3D结构?不仅需要高速率海量数据并行处理、压缩、传输与转化技术,还需转换系统的高精度、可调性与可靠性;第三,先进工艺技术保障。大面积衬底伴随着不平整度远大于光刻系统的焦深,因此,必须解决衬底不平整性对微结构分辨率和保真度的影响,解决与成像焦深的矛盾,才能实现高保真3D微结构的高效率制备。

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      2019-01-09

      项目介绍:光场调控的纳米光刻设备NanoCrystal200

      研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实现薄膜成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国际关注的重大共性难题。

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      2019-01-09

      项目介绍:微纳3D打印/光刻技术与设备

      在微结构打印方案中,已有的3D打印技术存在诸多限制,未有效解决器件尺寸与精度之间的矛盾、也存在3D结构打印保真度与可靠性不协调的难题。1、利用超快激光的“双光子效应”的3D打印,分辨率可达0.1微米,但串行写入模式,效率极低、对环境稳定性要求极高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗时太长,所以,可靠性降低;受制于非线性材料特性和处理工艺,打印一致性很难保障;2、光固化3D打印(SLA),利用胶槽供胶与DLP投影光逐层打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面积数毫米。由于累积曝光效应,对胶槽中光固化胶的吸收特性有严格要求,易导致打印的结构展宽,尤其对大深宽比微结构的打印,失真严重。

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